Ultraschall Reinigungsanlage für Silicium Waferscheiben
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6 Stationen Tauchspülen mit Ultraschall Pumpenkreislauf mit Filtersystem, 5 µ Filterdichte Trocknen der Teile mit Turbo-Umluftsystem bei ca. 70°C mit Lift-Off-System zum Abstreifen von Wasserresten Abkühlplatz
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